Kitajska naj bi imela delujoč prototip sistema za EUV litografijoKitajski napredek pri razvoju naprednih sistemov za svetlobno litografijo, ki so nujni za izdelavo čipov, je zaradi skrivnostnosti težko oceniti, a letos naj bi izdelali prvi delujoči prototip za litografijo v ekstremnem ultravijoličnem (EUV) spektru, ki je potreben za proizvodnjo najnaprednejših čipov.